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采用硅烷和甲烷作为前驱体，在热丝化学气相沉积技术中腔室压力对硅薄膜结晶度和成分的影响
摘要： 热丝化学气相沉积是一种多功能技术，与等离子体增强化学气相沉积（1-2 ?/秒）相比，它能以更高的沉积速率（约5-10 ?/秒）沉积a-Si:H和nc-Si薄膜。我们报道了通过在热/催化分解过程中向硅烷中添加甲烷，在极高沉积速率（≥40 ?/秒）下制备高度结晶的硅薄膜。在衬底温度为300°C、灯丝温度为2000°C的条件下，通过改变腔室压力（10-100 Pa）沉积了一系列薄膜。使用氢稀释硅烷（10%硅烷在氢气中）和纯甲烷作为前驱体，并保持气体流量比恒定为10。在较低压力（≤20 Pa）下制备的薄膜具有更高的结晶度且不含任何碳原子痕迹。当压力增加时，带隙从1.24 eV增加到1.63 eV。研究发现，腔室压力在决定这些薄膜的结晶度、无序度和组成方面起着关键作用。在氢稀释硅烷中添加甲烷提高了低压（≤20 Pa）下硅薄膜的沉积速率和结晶度。在压力超过20 Pa时，检测到碳原子的特征信号。当压力>100 Pa时，获得了SiC薄膜。
关键词： 沉积速率，硅薄膜，结晶度，热丝化学气相沉积
更新于2025-11-21 11:01:37
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激光化学气相沉积法制备石墨烯/3C-SiC薄膜的外延生长与电学性能
摘要： 高导电性石墨烯/外延3CeSiC（G/epi-3CeSiC）复合薄膜在微机电系统、分布式布拉格反射器、太阳能电池及恶劣环境光催化等领域具有应用潜力。本研究采用六甲基二硅烷（HMDS）作为安全单一前驱体，通过激光化学气相沉积（LCVD）法制备了G/epi-3CeSiC复合薄膜。该复合薄膜的电导率（σ）达到2.23×10? S/m，是现有报道中G/epi-3CeSiC复合薄膜最高电导率的2.2倍；其最高电导率对应的沉积速率（Rdep）是文献报道最高电导率G/epi-3CeSiC的8.2倍。纯外延3CeSiC薄膜的电导率仅为81.2 S/m，这是目前采用HMDS作为单一前驱体通过CVD法制备3CeSiC的最低值。当外延3CeSiC用作半导体材料时，消除碳元素有利于提高异质结的击穿场强并降低漏电流。
关键词： 电导率、沉积速率、激光化学气相沉积、石墨烯/碳化硅薄膜、外延生长
更新于2025-09-23 15:19:57
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电容耦合等离子体沉积反应器中侧壁条件优化的数值分析
摘要： 容性耦合等离子体（CCP）主要用于半导体行业中均匀薄膜的等离子体增强化学气相沉积。由于标准配置的CCP反应器放电腔不仅被电极表面包围，还受到侧壁影响，侧壁条件会显著改变沉积速率分布。通过将边界条件从接地导体切换为具有不同相对介电常数和厚度的介质材料，我们比较了SiH4/He CCP中等离子体密度、电离率、功率吸收及粒子通量的空间分布?；赟iH4/He CCP流体模型发现：采用高厚度低介电常数的绝缘体能在电极间隙区域实现最均匀的等离子体密度分布，从而获得非晶硅氢薄膜沉积速率分布的最佳均匀性。实验结果与流体模拟结果相互验证且吻合良好。作为补充验证，我们还对纯氩放电进行了粒子模拟。尽管模拟条件与SiH4/He流体模型完全不同，但始终显示介质侧壁比接地侧壁能产生更均匀的等离子体参数分布。
关键词： 沉积速率，SiH4/He CCP，等离子体增强化学气相沉积，电容耦合等离子体，等离子体均匀性
更新于2025-09-12 10:27:22
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超高倍聚光光伏系统用交叉复合抛物面聚光器?？榈墓獾缧阅芷拦?
摘要： 为了解韩国仁川北港的泥沙淤积过程，本研究通过估算沉积速率并确定主导淤积机制展开研究。沉积速率通过对比经疏浚量调整后的水深测量数据估算，并利用11根重力取样管穿透至先前疏浚面的深度进行验证。平均沉积速率为64厘米/年，但港口内部为10厘米/年，入口处达约100厘米/年。为确定主导淤积机制，在港口入口和内部末端布设两台ADCP进行为期一个月的沉积物通量估算，并通过港口入口与内部末端附近两次13小时CTD剖面测量分析详细输沙过程。入口处高淤积归因于高浊度水体流入、流速降低及涡流形成；港口内部低淤积则源于浓度约20-30毫克/升的微絮体缓慢沉降（该浓度水平不受时空变化影响）。
关键词： 潮汐港、沉积物岩芯、仁川北港、沉积速率、疏浚、港口淤积
更新于2025-09-11 14:15:04
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激光辐照对铜电沉积过程及镀层质量的影响
摘要： 本研究采用脉冲激光与电化学复合加工技术，在不锈钢基体上沉积铜涂层。通过检测机械效应与热效应，研究了电沉积过程中激光辐照的作用机制。实验对比了不同单脉冲能量激光对电沉积样品的辐照效果，利用扫描电子显微镜(SEM)观察涂层晶粒形貌，并采用UTM4000系列电子万能试验机测试其抗拉强度与延展性。结果表明：当采用适当单脉冲能量的激光辐照时，可提升沉积速率并改善涂层质量——这源于溶液温度升高及等离子体气泡引发的局部搅拌作用，使溶液导电性与扩散系数增加。同时，激光辐照还会影响枝晶的晶粒尺寸与生长方向。
关键词： 电沉积、沉积速率、等离子体冲击波、涂层质量、脉冲激光
更新于2025-09-04 15:30:14