研究目的
研究在光照处理下,由等离子体增强化学气相沉积层堆叠钝化的直拉硅制成的寿命样品中与体区和表面相关的退化现象。
研究成果
研究表明,采用PECVD沉积层叠结构钝化的Cz-Si寿命样品在光照处理下会出现显著的体相和表面相关性能退化。对于SiOxNy:H/SiNx:H钝化样品,测得表面相关退化(SRD)的表观活化能Eapp = 1.07 ± 0.02 eV,但由于缺陷密度和固定电荷密度同时发生变化,其机理解释较为复杂。需要进一步研究以阐明SRD在实际工作条件下对太阳能电池的影响。
研究不足
由于在SRD过程中界面缺陷和固定电荷密度同时发生变化,表观活化能Eapp的解读较为困难。该研究还指出,AlOx:H/SiOxNy:H/SiNx:H样品的结构复杂性以及J0s提取的难度,给进一步的SRD分析带来了挑战。
1:实验设计与方法选择:
样品采用硼掺杂直拉单晶硅片,分别用AlOx:H/SiOxNy:H/SiNx:H或SiOxNy:H/SiNx:H叠层钝化,并在工业快速烧结带式炉中烧制。
2:样品选择与数据来源:
使用边长156毫米、初始厚度约200微米的硼掺杂直拉单晶硅片。
3:实验设备与材料清单:
工业直接等离子体PECVD设备、Centrotherm c.FIRE 8.400–300 L带式炉、Sinton仪器寿命测试仪(WCT-120)。
4:400–300 L带式炉、Sinton仪器寿命测试仪(WCT-120)。
实验流程与操作步骤:
4. 实验流程与操作步骤:样品在恒温热板上于卤素灯照射的空气环境中处理,期间中断以测量少子寿命。
5:数据分析方法:
测量有效过剩载流子寿命,并通过有效缺陷密度的变化量化退化程度。
独家科研数据包,助您复现前沿成果,加速创新突破
获取完整内容